Pretok jedkanja

1. Čiščenje osnove

Ultrazvočno čiščenje, obdelavo raztopin za kislino/alkalij (na primer čiščenje RCA), čiščenje v plazmi in druge metode se uporabljajo za odstranjevanje površinskih onesnaževal (olje, delci, oksidni sloj).

2. fotoresistična prevleka

Zavrtite prevleko, da tvorite enakomerno fotoresistično plast, predhodno pecite, da odstranite topila in izboljšate oprijem.

3. Izpostavljenost in razvoj

Izpostavljenost: Uporaba maske za obsevanje z ultravijolično svetlobo, globoko ultravijolično svetlobo ali ekstremno ultravijolično svetlobo, da sprožite fotokemično reakcijo v fotoresistu.

Razvoj: raztopite izpostavljeno območje (pozitiven gel) ali neizpostavljeno območje (negativni gel) z raztopino, ki razvija, da se območje izpostavi.

4. jedkanje

Mokro jedkanje: Potopite substrat v raztopino jedkanja ali ga zdravite s škropljenjem.

Suho jedkanje: V vakuumsko komoro se vnese reaktivni plin (na primer Cl ₂, CF ₄), da vzbudi plazmo za jedkanje.

5. Odstranite odstranjevanje fotoresista

Mokra želatinizacija: uporabite topila, kot so aceton, N-metilpirolidon (NMP) ali močne kisline/oksidante (na primer H ₂ SO ₄+H ₂ O ₂).

Suha želatinizacija: Plazem kisika v plazmi, učinkovit in ostanki brez ostankov.

6. Post obdelava in pregled

Čiščenje: odstranite stranske proizvode in preostale reagente.

Zaznavanje: Analizirajte njegovo morfologijo, izmerite njegovo velikost in izvedite električno testiranje z skeniranjem mikroskopa.